光山機(jī)械密封由于工作條件和介質(zhì)性質(zhì)的不同，一般可以分為耐高溫、耐低溫光山機(jī)械密封，耐高壓、耐腐蝕光山機(jī)械密封，耐顆粒介質(zhì)光山機(jī)械密封和適應(yīng)易汽化的輕質(zhì)烴介質(zhì)的光山機(jī)械密封等，應(yīng)根據(jù)不同的工況要求選取不同結(jié)構(gòu)型式和材料的光山機(jī)械密封。

　　光山機(jī)械密封的主要參數(shù)有：密封腔體壓力(MPA)、流體溫度(℃)、工作速度(M/S)、流體的特性以及安裝密封的有效空間等。

　　光山機(jī)械密封選型的基本原則為：

　　1、根據(jù)工作速度，確定采用旋轉(zhuǎn)式或靜止式，流體動(dòng)壓式或非接觸型。

　　2、根據(jù)密封腔體壓力，確定密封結(jié)構(gòu)采用平衡型或非平衡型，單端面或雙端面等。

　　3、根據(jù)安裝密封的有效空間，確定采用多彈簧或單彈簧或波形彈簧，內(nèi)裝式或外裝式。

　　4、根據(jù)溫度及流體性質(zhì)，確定摩擦副和輔助密封材料，以及正確選擇潤滑、沖洗、保溫、冷卻等光山機(jī)械密封循環(huán)保護(hù)系統(tǒng)等。